产品专业性:
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜
产品组成: PECVD系统配置: 1.1200度开启式双温区真空管式炉 2.等离子射频电源 3.多路质量流量控制系统 4.真空系统(可选配中真空或高真空)
产品特点:
生长温度低;沉积速率快;成膜质量好,适用范围广,设备简单。
特点展示:
产品参数: