产品用途:
此款CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结,真空淬火退火,快速降温等工艺实验。
产品组成:
CVD系统配置:
1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区)。
2.滑动系统分为手动、电动滑动,并配有风冷系统。
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统(可选配中真空或高真空)
产品特点:
1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。
2 气路快速连接法兰结构采用本公司du有的知识产权专利设计,提高操作便捷性。
3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵防止意
外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。
4 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动,等程序完成,炉体按设定
的速度滑动,因有滑动限位功能,炉体不会发生碰撞,待样品露出炉体后,通过风冷系统快速降温。
5 双管真空密封法兰,反映气体可以在内外管之间发生反应,冷却气体可通过内管,从而使内管外壁温度降低。
特点展示:
产品参数: